Catégorie:Fabrication de semi-conducteur

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Microlithographie‎ – 11 P

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Fabrication des dispositifs à semi-conducteurs

A

Atomic layer deposition

B

Buffered oxide etch

C

D

E

F

G

Gravure ionique réactive profonde

I

Implantation ionique

L

N

Nitrure de titane

O

Oxydation thermique

P

R

S

T

Tétrakis(diméthylamino)titane

V

Via traversant

W

Wafer

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